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銅管靶,4N銅靶,5N銅靶,高純銅靶

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旋轉銅靶 Rotatable Cu target 中國集成電路材料現狀如何?靶材是薄膜制備的關鍵原料之一,半導體在靶材應用中約占10%。2016年靶材市場增速達到20%,2017年-2019年仍將保持復合增速13%,到2018年大部分國家靶材市場空間達到983億元,超越大部分國家金屬鈷和碳酸鋰合計941億元的市場,未來潛力巨大。高純金和高純銀因具有接觸電阻小,熱阻低,熱效應力小和可靠性高等優(yōu)點,其靶材材料廣泛應用于背面金屬化系統、汽車工業(yè)、高溫材料和生物醫(yī)學中。“半導體器件用鎳鉑靶材的制備關鍵技術及產業(yè)化”取得重大打破,建立了生產線并取得良好經濟效益,鎳鉑靶材替代了****產品并遠銷海外。國內靶材等半導體材料的帶領者企業(yè),實現了高純金屬、靶材一體化運營,在高純金屬、銅靶材、鈷靶材等產品上實現了技術打破。并成功進入到國外集成電路企業(yè)的供應鏈。 應用: 制作純銅膜,用于裝飾玻璃鏡膜,PCB板鍍膜等,TFT, Low-E 鍍膜,半導體電子 其他靶材 金屬鋁靶材Al,金屬銻靶材,金屬鉍靶材Bi,金屬鎘靶材Cd,硼靶材B,碳靶材C,石墨靶材C,稀土金屬鈰靶材Ce,金屬鉻靶材Cr,金屬鈷靶材Co,金屬銅靶材Cu,稀土金屬鏑靶材Dy,稀土金屬鉺靶材Er,稀土金屬銪靶材Eu,稀土金屬釓靶材Gd,鍺靶材Ge,黃金靶材Au,金屬鉿靶材Hf,稀土金屬鈥靶材Ho,金屬銦靶材In,金屬銥靶材Ir,金屬鐵靶材Fe

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