自20世紀(jì)80年代，以集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示器、激光存儲(chǔ)器、電子控制器為主的電子與信息產(chǎn)業(yè)開始進(jìn)入高速發(fā)展時(shí)期，用真實(shí)進(jìn)入工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域。近10年來(lái)，濺射技術(shù)更是取得了突飛猛進(jìn)的發(fā)展。相比PVD另一大工藝真空鍍膜，厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)。電子器件靶材的原材料有鎳鉻合金、鉻硅合金等，薄膜電容。靶材的方法很多。大體上，按應(yīng)用領(lǐng)域。等）。稀土領(lǐng)域，比較一體的后起之秀。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體靶材是制造集成電路的關(guān)鍵原材料，也是技術(shù)要求高的靶材。高集成度，半導(dǎo)體靶材制造原料主要有非常高純度鋁、鈦、銅、鉭等。純度鋁、銅、鉬等。 在半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線。ITO片采用新型液態(tài)金屬印刷技術(shù)制成，厚度僅為1.5nm，可以沉積在各種基材上，然后可以像管一樣卷起來(lái)。氧化銦錫(ITO)導(dǎo)電膜具有良好的光學(xué)透光性能和導(dǎo)電性能，被廣泛應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，它是電阻式與投射電容式觸控面板的基礎(chǔ)材料，其產(chǎn)業(yè)鏈下游市場(chǎng)為觸控模組和觸控面板。上游為光學(xué)級(jí)PET基膜、靶材和涂布液等化學(xué)原材料。從觸摸屏技術(shù)路線來(lái)看，分為掛式和內(nèi)嵌式兩種。掛式電容屏技術(shù)有薄膜式和玻璃式兩種；內(nèi)嵌式電容屏技術(shù)主要為In-cell和On-cell兩種。將ITO玻璃進(jìn)行加工處理、經(jīng)過(guò)鍍膜形成電極。銀納米線導(dǎo)電膜：銀納米線是一種新興的ITO導(dǎo)電膜潛在替代品。 濺射鍍膜靶材：高等應(yīng)用領(lǐng)域就是TFT這一塊了，用量大的當(dāng)數(shù)彩色濾光片 CF ，其次是Array。這兩塊的供應(yīng)基本被國(guó)外廠商控制，國(guó)內(nèi)幾家也都在向CF這塊進(jìn)行送樣。另一塊的應(yīng)用就是ITO導(dǎo)電玻璃了。二、靶材市場(chǎng)：1、蒸發(fā)靶材：蒸發(fā)靶材的技術(shù)難度較高（針對(duì)LED芯片市場(chǎng)），目前大部分國(guó)家供應(yīng)只有日本住友和長(zhǎng)沙壹納兩家，其中長(zhǎng)沙壹納靶材目前在國(guó)內(nèi)的占有率已經(jīng)打破80%，品質(zhì)也相對(duì)穩(wěn)定。其他廠家也嘗試進(jìn)入，但目前為止沒有批量導(dǎo)入的經(jīng)驗(yàn)。從設(shè)備所占市場(chǎng)份額看，AMAT的產(chǎn)品覆蓋了整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈，眾多產(chǎn)品市場(chǎng)占有率處于****水平，包括PVD沉積設(shè)備（84.9%），P設(shè)備（66%），離子注入設(shè)備（73%）領(lǐng)域處于****水平。此外，泛林的刻蝕機(jī)市場(chǎng)占有率達(dá)到52.7%，科磊的檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)占有率達(dá)到70%。 氮化物是在電子和光電子應(yīng)用方面有較大潛力的新型半導(dǎo)體材料,它在室溫下具有高電子遷移率和良好導(dǎo)電性的優(yōu)勢(shì)。是目前大部分國(guó)家半導(dǎo)體研究的熱點(diǎn)，是研制微電子器件、光電子器件的新型半導(dǎo)體材料。它具有寬的直接帶隙、強(qiáng)的原子鍵、高的熱導(dǎo)率、化學(xué)穩(wěn)定性好(幾乎不被任何酸腐蝕)等性質(zhì)和強(qiáng)的抗輻照能力。氮化物靶材的鍍層顏色，根據(jù)不同的氮化物，可以獲得不同顏色，其中，氮化鈦（TiN）金顏色涂層，良好的硬度和潤(rùn)滑性，附著性好，適用于加工大部分材料。TiCN，藍(lán)灰色涂層，硬度越HV3000，耐熱400℃。TiN TiCN，深顏色涂層，良好的硬度和潤(rùn)滑性，適用于加工大部分材料。 陶瓷靶材分為化合物陶瓷靶材和氧化物靶材，產(chǎn)品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各類混合摻雜物，純度99.5%-99.999%，適合磁控濺射鍍、熱蒸鍍、電子束蒸鍍，產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于各類半導(dǎo)體行業(yè)、太陽(yáng)能光伏光熱行業(yè)、建筑、裝飾、汽車、平面顯示、LCD、LED、集成電路，元器件、磁記錄、裝飾、工具鍍膜、航空航天、****、科研等領(lǐng)域。不同的氮化物，可以獲得不同的鍍層顏色。其中，TiAlN是藍(lán)灰色涂層，硬度越HV3300，耐熱900℃?？捎糜诟咚偌庸ぃ籊rN是銀灰色涂層，良好的潤(rùn)滑性能，主要用于有色金屬加工。 所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。金屬靶材:鎳靶、N、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、kg、鈮靶、№b、錫靶、Sn、鋁靶、A1、銦靶、I、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁靶、TiΔl、鋯靶、Zr、鋁硅靶、AlSi、硅靶Sⅰ、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、e、銀靶、Ag、鉆靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、La、億靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不銹鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、H、鉬靶、M、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。磁控濺射原理：在被濺射的靶極（陰極）與陽(yáng)極之間加一個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），較好磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場(chǎng)，同高壓   電場(chǎng)組成正交電磁場(chǎng)。在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子，靶上加有一定的負(fù)高壓，從靶極發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率加大，在陰極附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面，以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛，除可濺射導(dǎo)電材料外，也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時(shí)還可進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高后就成為微波等離子體濺射，如今，常用的有電子回旋共振(ECR）型微波等離子體濺射。